50_电源设计流程 01 —— 热设计:热阻链、散热计算、风冷/自然对流与温度测试
本篇回答的问题:开关电源的首要失效诱因是热——电解电容因过热失效、MOSFET 结温超限、变压器绕组烧毁、焊点热循环开裂,几乎每类失效都能追溯到“某处过热”。本篇把热设计变成一套可核算的流程:损耗从哪来 → 热怎么流走(热阻链)→ 结温是多少 → 用什么手段降温 → 怎么测准 → 与寿命怎么联动。会核算之后,散热就不再是“加个散热片、开个通风孔”式的经验做法,而是先算功率损耗、再定热阻预算、再选散热手段的固定流程。
与库内文档的关系:损耗计算是热设计的输入,见 03_功耗计算全译(导通损耗=式 4、开关损耗=式 21);热阻链与铜箔/过孔散热见 05_开关电源PCB布局设计 §8;电解电容寿命联动见 11_电容家族 Nichicon 全译(式 2-19)与本类 01_可靠性设计;EVM 热像实测数据取自 NCP1680 EVBUM2822、NCP1680 EVBUM2886、UCC28781 EVM、NCP1568 EVBUM2734;封装热阻与结温测量原理见 09_平面MOSFET 00/04 篇、SiC 应用笔记全译。
数据规范:热阻链、传热系数、传热公式标“教科书/标准通识(以现行标准为准)”;库内 EVM 热像与器件热阻数据标出处;散热器选型经验、失效率温度系数等工程口径标「业界经验」;独立推算标“本篇推算”;严禁编造。公式 LaTeX。
1. 热的来源与去向:先核算,再散热
1.1 先给结论
热设计只有要点:先把功率损耗算出来,再把每瓦损耗对应的温升压到安全值以内。前者是“来源”,后者是“去向”——来源由损耗计算决定(见 09_功耗计算篇),去向由热阻链决定。热阻(thermal resistance)把“温度差”和“功率”串起来,像电阻把“电压差”和“电流”串起来一样:单位瓦的损耗在一定的热阻上产生多少度温升,一算就清楚。
1.2 机理:热阻的定义与量纲(教科书/标准通识)
热阻 $R_{th}$(或 $\theta$)定义为单位热流(功率)引起的温差:
$$R_{th} = \frac{\Delta T}{P}\,,\qquad \text{单位 } \mathrm{\,^{\circ}\mathrm{C}/W\ (或\ K/W)}$$
量纲直觉:$R_{th} = 1\ \mathrm{\,^{\circ}\mathrm{C}/W}$ 表示“每耗散 1 W 温度升高 1 ℃”。热阻链与电阻链遵守完全相同的串联加法规则:热从芯片结(junction)出发,逐段经过封装(结-壳)、界面材料(壳-散热器)、散热器到环境(散热器-环境),每一段都是串联热阻:
$$\theta_{JA} = \theta_{JC} + \theta_{CS} + \theta_{SA}$$
- $\theta_{JC}$(结-壳):芯片硅片到封装外壳/散热焊盘的热阻,由芯片面积与封装决定,datasheet 必给,量级 0.5~3 ℃/W(功率封装);
- $\theta_{CS}$(壳-散热器):界面材料与接触面的热阻,量级 0.1~1 ℃/W(涂好硅脂的金属面);
- $\theta_{SA}$(散热器-环境):散热器/铜箔表面到空气的热阻,可设计、可改动,是热设计的“调节旋钮”,量级 1~100 ℃/W。
有了热阻链,结温就是一条算术题:
$$T_j = T_a + P_{diss}\times\theta_{JA} = T_a + P_{diss}\times(\theta_{JC}+\theta_{CS}+\theta_{SA})$$
1.3 机理:为什么“算功率损耗”是热设计的前提
热阻链公式里唯一的自由变量是 $P_{diss}$——损耗算错,后面全是白算。而损耗计算有一套成熟工具(Infineon AN 方法,库内 09_平面MOSFET/02 篇全译):
$$P_{diss} = P_{cond} + P_{sw} = R_{DSon}\cdot I_{Drms}^2 + (E_{on}+E_{off})\cdot f_{sw}\qquad \text{(出处:平面02 篇 式 4/21)}$$
两个必须记住的陷阱(均为库内已记录口径):
- RDS(on) 要用热态值。RDS(on) 随结温正温度系数,平面篇译注补例 α≈0.47 %/K,100 ℃ 温升后约 +60%(3.3→5.3 mΩ)——用 25 ℃ 表值算电流余量会高估约 40%(出处:平面02 篇 §2.1.1 补例、待核实总表)。
- 开关损耗随频率线性涨。硬开关下电压电流交叠 + Qrr 的能量乘以 fsw,频率翻倍损耗翻倍——软开关拓扑(QR/LLC/ACF/ZVS)省的主要就是这一项(出处:平面02 篇 §2.2.3 补例 3)。
1.4 代入数值:65 W QR 主开关的完整热阻链(本篇复算)
以 65 W USB-PD 准谐振反激(NCP1342 路线)主开关为例,库内 65W 对比篇给:初级峰值电流 I_pk = 3.44 A、I_RMS = 1.38 A(出处:65W 对比篇 §3.2 NCP1342 列)。选一只 650 V 超结管,本例假设 RDS(on)≈0.30 Ω @25 ℃(典型 650 V 超结档位):
$$P_{cond} = R_{DSon}(125\,^{\circ}\mathrm{C})\cdot I_{Drms}^2 = (0.30\times 1.6)\times 1.38^2 \approx 0.48\times 1.90 \approx 0.91\ \mathrm{W}$$
QR 谷底开通消除大部分开通损耗,关断损耗按量级估 0.5~1 W(本例假设)→ 主开关总损耗 ≈ 1.4~1.9 W ≈ 1~2 W。这个量级与 65W 对比篇 QR 列的损耗核算一致(RCD 烧漏感 ≈0.7 W、采样电阻 0.38 W、次级肖特基 ≈2 W——主开关 1~2 W 是同一次核算中的主要项之一)。
热阻链代入(Ta = 40 ℃ 最坏环境):
- 散热良好(TO-220/DPAK 大面积铜箔,θJA≈40 ℃/W):$T_j = 40 + 1.5\times40 = 100\ \mathrm{\,^{\circ}\mathrm{C}}$——低于 125 ℃ 红线,裕量 25 ℃;
- 散热不足(铜箔面积小,θJA≈80 ℃/W):$T_j = 40 + 1.5\times80 = 160\ \mathrm{\,^{\circ}\mathrm{C}}$——直接超限。
工程含义:同一只管子、同一项损耗,只因为 PCB 铜箔散热条件不同,结温从 100 ℃ 变成 160 ℃。热设计不是选型问题,是“损耗核算 × 热阻核算”的联立。
1.5 可照做
- 热设计第一步永远是开一张损耗表:每只功率器件一行(导通/开关/驱动/体二极管),来源标清楚。
- 定 θJA 预算:先定允许结温(通常 ≤125 ℃,见 §6),减去环境温度,除以损耗,得到“允许的 θJA”,再反推需要多大铜箔/散热器。
- 热态电阻:损耗计算里的 RDS(on) 一律用估算结温下的值(×1.5~1.8 起步)。
2. 三种散热机制:传导、对流、辐射
2.1 先给结论
热从器件到空气只有三条路:传导(固体导热)、对流(流体带走)、辐射(电磁波散走)。开关电源里三者都真实存在:传导负责“把热从芯片引到大面积铜箔/散热器”,对流和辐射负责“把热最终交给空气”。三种机制的量级差别悬殊,决定了“哪种手段最划算”。
2.2 传导:把热从一点摊到一大片
机理:热沿固体内部传递,由傅里叶定律(教科书/标准通识):
$$R_{cond} = \frac{L}{k\cdot A}$$
$L$ 为导热路径长度、$A$ 为截面积、$k$ 为热导率。关键材料热导率(教科书/标准通识):铜 385~401 W/(m·K)、铝 200~237、FR-4 玻纤板约 0.25~0.4、空气约 0.026、导热硅脂 1~5 W/(m·K)。
代入数值(本篇推算):1 cm × 1 cm、2 oz(厚 70 µm)的铜箔,热从一边到另一边:截面积 = 70 µm × 1 cm = 7×10⁻⁷ m²,$R = 0.01/(385\times 7\times10^{-7}) \approx 37\ \mathrm{\,^{\circ}\mathrm{C}/W}$。1 oz(35 µm)翻倍到约 74 ℃/W;四层板四层 2 oz 铜平面并联 → 约 9 ℃/W。工程含义:一片 1 cm 见方的铜箔本身就有几十 ℃/W 的横向热阻,传导散热的本质是用多层大面积铜箔把热从热点“摊平”到整个板面,摊平之后热阻才能低。
适用场景:PCB 铜箔、铝基板/IMS、散热器本体、陶瓷基板(LED/功率模块)。效率量级:铜箔/铝板是“免费”的传导通道,成本最低、最先用。
2.3 对流:把热交给流动的空气
机理:表面与空气的换热,牛顿冷却定律(教科书/标准通识):
$$R_{conv} = \frac{1}{h\cdot A}\,,\qquad P = h\cdot A\cdot \Delta T$$
表面换热系数 h 的量级(教科书/标准通识,静止空气):自然对流约 5~25 W/(m²·K)(垂直平板典型 ~10);强制风冷约 25~250 W/(m²·K)(风道内典型 50~100)。空气热导率极低(0.026 W/m·K),所以对流散热必须靠面积和气流。
代入数值(本篇推算):100 cm²(0.01 m²)黑化表面,自然对流 h=10:$R_{conv} = 1/(10\times0.01) = 10\ \mathrm{\,^{\circ}\mathrm{C}/W}$——1 W 温升 10 ℃。强制风冷 h=100:$R_{conv} = 1/(100\times0.01) = 1\ \mathrm{\,^{\circ}\mathrm{C}/W}$——同一块表面,风扇把热阻压了 10 倍。这就是“强制风冷功率密度能高一个量级”的定量来源。
适用场景:自然对流(适配器/砖头电源/室内设备,安静、无活动件)、强制风冷(通信电源、服务器电源、车载、大功率>200 W)。
2.4 辐射:黑化表面在红外波段“发光”
机理:斯蒂芬-玻尔兹曼定律(教科书/标准通识):
$$P_{rad} = \varepsilon\,\sigma\,A\left(T_1^4 - T_2^4\right)\,,\qquad \sigma = 5.67\times10^{-8}\ \mathrm{W/(m^2\cdot K^4)}$$
发射率 ε 由表面状态决定(教科书/标准通识):抛光铝/光亮铜 ε≈0.04~0.1(几乎不辐射);阳极氧化黑化/黑色漆 ε≈0.8~0.95(辐射主力)。辐射与绝对温度的四次方成正比,温差越大、温度越高辐射越强。
代入数值(本篇推算):100 cm² 黑化表面(ε=0.9),表面 90 ℃(363 K)、环境 25 ℃(298 K):$P_{rad} = 0.9\times5.67\times10^{-8}\times0.01\times(363^4-298^4) \approx 4.8\ \mathrm{W}$——对应辐射等效热阻约 65 ℃/4.8 W ≈ 13.5 ℃/W,与自然对流(10 ℃/W)同一量级。工程含义:100 ℃ 上下的散热器,辐射贡献约占总散热的 20~40%,“表面黑化”不是装饰是散热手段;但在 60 ℃ 以下、金属抛光面,辐射可以忽略。
2.5 三种机制的协同与取舍
| 机制 | 量级 | 手段 | 适用 |
|---|---|---|---|
| 传导 | k=0.03(空气)~400(铜)W/m·K | 铺铜、铝基板、散热器 | 先把热摊平、引走 |
| 自然对流 | h≈5~25 W/m²·K | 大面积表面、竖直摆放、散热器翅片 | <200 W、安静场合 |
| 强制风冷 | h≈25~250 W/m²·K | 风扇+风道 | >200 W、高密度场合 |
| 辐射 | ε:0.05(抛光)~0.95(黑化) | 阳极氧化/黑漆 | 散热器表面处理,锦上添花 |
设计顺序(业界经验):先传导(铺铜/过孔把热点摊平)→ 再对流(面积或风扇)→ 最后辐射(表面黑化)。辐射单独难以承担大功率散热,但配合传导+对流能省 20~40% 散热面积。
3. 热阻计算与温升预估:从损耗到结温
3.1 先给结论
结温预估就是 $T_j = T_a + P\cdot\theta_{JA}$ 一式的工程化。难点不在公式,在θJA 怎么估:它随封装、铜箔面积、散热器、气流变化一个量级以上。本节给一套“先估 θJA、再算结温、再用库内 EVM 热像验证”的流程。
3.2 机理:θJA 的量级与组成
没有散热器、只靠 PCB 铜箔时,θJA 由封装热阻与板上铜箔面积共同决定(教科书/标准通识 + 库内数据):
| 封装/散热条件 | θJA 量级 | 出处 |
|---|---|---|
| SOT-23 / TSOP-6 小封装 | 150~250 ℃/W | NCP4307 TSOP-6 按 250 ℃/W 核算(待核实总表) |
| SO-8 / SOIC-16(无散热焊盘) | 80~130 ℃/W | NCP1399 SOIC-16 标称 130 ℃/W(NCP1399/04 §3.6) |
| DPAK / TO-220 / SO-8 带散热焊盘 + 1 in² 铜箔 | 40~80 ℃/W | 平面04 篇补例 4:1 in² 2 oz 板 ≈62.5 ℃/W |
| 同上 + 多层内层铜平面 | 20~40 ℃/W | NCP1680 EVB 内层铜平面实证(§3.5) |
| 加铝挤散热器(自然对流) | 5~20 ℃/W | 教科书/通识量级 |
| 散热器 + 强制风冷 | 1~5 ℃/W | 教科书/通识量级 |
为什么“40~80 ℃/W”是中小功率电源最常见的量级:DPAK/TO-220/大焊盘 SO-8 配 1~2 in² 铜箔正好落在这一档。注意 θJA 是板上条件而不是纯封装参数——datasheet 给 θJA 时一定注明测试用铜箔面积,不同面积下数字不可直接比(出处:平面04 篇补例 4 的“差 40 倍”警示)。
3.3 机理:铜箔面积如何降 θJA
铜箔面积越大、层数越多,θJA 越低,但收益递减(教科书/标准通识趋势 + 平面04 篇锚点):datasheet 曲线典型趋势是铜箔从 0.1 in² 加到 1 in²,θJA 下降约一半;从 1 in² 再加到 4 in²,只再降 20~30%。库内锚点数字:1 in² 2 oz 板上 RθJA≈62.5 ℃/W,对应 PDSM=(150−25)/62.5≈2 W——“一只 SO-8 功率管在标准测试板上最多散 2 W”就是这么来的(出处:平面04 篇补例 4)。反过来读:想散 4 W 又要结温不超过 125 ℃,就得把 θJA 压到 (125−40)/4≈21 ℃/W 以下——单层 1 in² 铜箔不够,要加内层平面或散热器。
3.4 机理:散热器选型(θSA 与体积)
散热器热阻 θSA 的对流项就是牛顿冷却定律:$R_{SA} \approx 1/(h\cdot A_{总})$,A_总 是含翅片的总表面积(教科书/标准通识),辐射并联可再降 30~50%(业界经验)。反推流程:
$$\theta_{SA} \leq \frac{T_{j,max} - T_a}{P} - \theta_{JC} - \theta_{CS}$$
代入数值(本篇复算):器件 P=10 W、Tj,max=125 ℃、Ta=50 ℃、θJC=1 ℃/W、θCS=0.3 ℃/W:$\theta_{SA} \leq (125-50)/10 - 1.3 = 7.5 - 1.3 = 6.2\ \mathrm{\,^{\circ}\mathrm{C}/W}$。按自然对流 h≈10 折算约需总表面积 A_总 ≥ 1/(10×6.2) ≈ 160 cm²(含翅片)——一片 4 cm×6 cm 基座、十几片翅片的铝挤型材量级。体积经验(业界经验):自然对流散热器比热阻粗略按“每 50~100 cm³ 体积给出约 3~5 ℃/W”,加风扇可把同体积散热器的 θSA 压 2~4 倍;体积翻倍热阻约降 30~40%(收益递减)。
3.5 用库内 EVM 热像数据验证估算 ★
估算值必须拿到实板上校核。库内四份 EVM 热像正好覆盖“铜箔散热”和“磁件/绕组”两类验证:
① NCP1680 EVBUM2822(300 W 图腾柱 PFC,纯铜箔散热):90 Vac、300 W 满载、25 ℃ 环境、无外部气流、无散热器,快/慢桥臂开关管温度均 低于 60 ℃——比室温仅高 35 ℃;原文明言“PCB 内层铜平面充当散热器”(出处:EVBUM2822 精译 §热性能)。交叉验证(本篇推算):假设每只 GaN/Si 桥臂管满载损耗 1.5~2 W(300 W 级 PFC 的合理量级),则 θJA(eff) ≈ 35/1.75 ≈ 20 ℃/W——与“多层内层铜平面把 θJA 压到 20~40 ℃/W”的 §3.2 量级表吻合。估算与实测互相印证。
② UCC28781 EVM(60 W ZVS 反激):满载热成像显示最热点是变压器绕组——500 VDC 输入 104 ℃、264 VAC 98.3 ℃、250 VDC 88.3 ℃、180 VAC 91.5 ℃;SR 栅极驱动电阻 R11 也在 86.9~93.7 ℃(出处:UCC28781 EVM 精译 §8.6)。工程读法:板上第一热源往往不是开关管而是磁件,热设计必须给变压器留温升预算(磁材 100 ℃ 附近的磁损谷点见待核实总表磁件行);绕组 104 ℃ 是“还能跑但接近材料极限”的档位,量产设计建议再降 10~20 ℃(业界经验)。
③ NCP1680 EVBUM2886(300 W PFC+LLC 两级,无散热器):90 Vac 满载热像覆盖 PFC 级四点——IMS 半桥模块背面、电感磁芯、电感绕组、慢桥臂 MOSFET;板尺寸 134×62×18 mm、功率密度 >36 W/in³,无散热器设计(出处:EVBUM2886 精译 §热像)。这是“IMS 铝基板 + 内层铜平面”在高密度适配器里替代散热器的实证。
④ NCP1568 EVBUM2734(60 W ACF):两档热像(115/230 Vac 满载),各点温度读数在热成像位图内,原文未单列数值(出处:EVBUM2734 精译 §热数据)。
3.6 可照做
- 预估算流程固定四步:损耗表 → θJA 量级(查 §3.2 表)→ 结温 → 不达标就加铜箔/内层/散热器/风扇,重新算。
- 散热器反推公式写进选型表:θSA ≤ (Tj,max−Ta)/P − θJC − θCS,一步算出需要的总表面积。
- 实板验证用 EVM 同类口径:标环境温度、气流、负载、输入电压——热像数据没有这四行条件不可比。
4. 散热设计手段:铺铜、过孔、散热器、铝基板、TIM、风扇
4.1 先给结论
散热手段按“成本从低到高、效果从弱到强”排:PCB 铜箔/过孔阵列(免费)→ 铝基板/IMS(板级)→ 散热器+TIM(器件级)→ 风扇/风道(系统级)。开关电源的工程顺序永远是先用够前两级,实在不行再上后两级——NCP1680 EVB 证明 300 W 无散热器也能做(靠内层铜平面),而大功率/密封环境迟早要动散热器和风扇。
4.2 PCB 铜箔铺铜与过孔阵列
- 铺铜:功率器件焊盘周边铺大面积铜箔、多叠层并联。1 oz 铜厚 35 µm、2 oz 70 µm(标准通识),内层铜平面是最“便宜”的大面积传导通道(出处:布局篇 §8.2、EVBUM2822)。
- 过孔阵列:散热过孔把表层热点导到内层/底层铜平面。0.3 mm 镀通孔的镀铜柱热阻约 100~200 ℃/W/只,填充焊锡后更低;功率焊盘下 9~16 只过孔阵列能把“热点→内层平面”的热阻压到个位数 ℃/W(出处:布局篇 §8.2 推算量级)。 独立交叉验证(本篇推算):0.3 mm 孔、镀铜厚 25 µm、板厚 1.6 mm——镀铜截面积 π×0.3 mm×25 µm ≈ 2.4×10⁻⁸ m²,$R = 0.0016/(385\times 2.4\times10^{-8}) \approx 176\ \mathrm{\,^{\circ}\mathrm{C}/W}$——正好落在布局篇 100~200 ℃/W 量级内。填锡后与焊锡(k≈50)并联降到约 127 ℃/W,收益有限但改善接触与热容。
- 布局纪律(出处:布局篇 §8.4):MOSFET 漏极铜箔=开关节点,“不扩大开关环路面积”优先于“摊大铜”——该散的多余热用热过孔导内层,不在表层摊大铜(EMI 与散热冲突时电性能优先)。过孔阵列同时是电流通道:每 200 mA 一只标准过孔的电流容量纪律同时管了热(出处:布局篇 §8.2,TI AN-1149 §5)。
- 库内落地实例:UCC28781 EVM 的散热焊盘就是“短走线接 AGND + 过孔阵列下内层”,四层板内层同时做回流平面与散热铜(出处:UCC28781/04 §3.7)——把 §4.2 的手段完整落到了参考设计里。
4.3 散热器与热界面材料(TIM)
- 散热器:铝挤型材主流,表面处理(黑化/阳极氧化 ε≈0.8~0.95)提升辐射;安装靠卡扣、弹簧夹或螺钉。选型见 §3.4。
- TIM(热界面材料):填补散热器与器件/基板间的微观间隙,量级见 §1.2(θCS 0.1~1 ℃/W)。两类各有陷阱(出处:SiC 应用笔记 §6.4.1 全译):
- 导热垫片:固体、好操作,但装配扭矩需求可能很大(ROHM 例:8 N·m),超过功率模块安装扭矩额定(3.5 N·m),须谨慎;
- 导热硅脂:流体、可在额定扭矩内使用,但厚度难控制、随温度变化会流动(pump-out 泵出现象)产生空隙。
- 功率模块基板实际有翘曲(ROHM 例:1200 V 模块沿长边剖面最大约 38 µm),间隙必然存在,TIM 不是可选项是必选项(出处:SiC 应用笔记 §6.4.1)。
- 安装验证:装上散热器后测 θCS 是否落在预算内——壳温-散热器温差除以功率即实测 θCS,超过 1 ℃/W 说明界面没装好(业界经验)。
4.4 铝基板 / IMS(绝缘金属基板)
- 结构(教科书/标准通识):铜箔 / 绝缘导热层(约 1~3 W/(m·K))/ 铝板(约 200 W/(m·K))——铝板把热迅速摊平再整面散热。
- 适用:单面大功率器件(MOSFET 桥、电机驱动、LED 灯板),热量直接灌到金属基板再通过整板面积对流散热;NCP1680 EVBUM2886 的 PFC 级就用 IMS 半桥模块承载快桥臂 GaN(出处:EVBUM2886 精译)。
- 注意(教科书/标准通识 + 业界经验):绝缘层热导率是瓶颈(等效整板垂直热阻仍高于铝),且铝基板不能直接当安规隔离层用——需要隔离的场合(原副边同板)慎用,或留足够绝缘距离。
4.5 风扇与风道设计
- 风量与压降:风扇散热能力 = h 提升(§2.3,h 可到 50~250 W/m²·K),同体积散热器加风扇 θSA 压 2~4 倍(业界经验)。选型看风量-静压曲线与系统风阻的匹配点(教科书/标准通识)。
- 风道纪律(业界经验):进风口低于出风口(热空气上升)、发热器件放气流上游、电解电容不要直接挡在 MOSFET/变压器出风位置(热风烤电容=寿命自杀,呼应 §6);风道截面积别突然收窄(风阻飙升、风量骤降)。
- 可靠性代价:风扇是磨损失效件,寿命由轴承与温度定(标准通识,出处:可靠性篇 §3.3);长寿命设计用温控调速(温度闭环调速,业界经验),并给“风扇失效后降额运行”做热预算。
4.6 GaN/SiC 的高功率密度散热挑战 ★
宽禁带器件用更小的芯片承受同样的功率,使热耗集中于更小的面积——散热挑战不是消失了而是变了形(呼应 09_器件层):
- SiC 封装限制结温上限:封装将 Tj 限定在 150~175 ℃,不能按材料耐温外推(出处:SiC 深潜 §1.2,可靠性篇 §2.3 引用)。好处是允许更高的散热设计结温(175 ℃ 档可少用散热器),坏处是瞬态热容小——芯片面积比 Si 小 1~2 个数量级,同样能量注入时温升更快(出处:待核实总表 SiC“面积税”行)。
- 取消散热器的可能:1700 V SiC 反激用管 RonA 约为 Si 的 1/200,发热可减到取消散热器、走表面贴装(出处:SiC 应用笔记 §3.12 原话)。低损耗本身就是热设计——SiC/GaN 带来的功率密度提升,一半来自损耗下降,一半来自散热结构简化。
- 模块级散热路径:SiC 功率模块芯片与基板之间有焊料+走线+隔离基板多层热阻;模块内装 NTC 不在散热路径上(与半导体结之间存在热阻),Tj 与 NTC 读数关系依外部冷却条件而定、瞬态测不了(出处:SiC 应用笔记 §6.3)。用模块 NTC 做 OTP 必须标定“NTC 温度-结温”映射,不能直接当 Tj 用。
- 封装改进也是散热手段:ROHM G 型功率模块同时改善内部电感与模块热阻(Rth),靠散热能力提升把允许电流提高一倍(出处:SiC 应用笔记 §6.10)。
4.7 可照做
- 散热手段按“免费 → 板级 → 器件级 → 系统级”顺序上,每上一级重新算一遍 θJA 预算。
- 过孔阵列是布局参数:0.3 mm、9~16 只起步,填锡可再降;位置在功率焊盘正下方、连内层平面。
- TIM 选型先查扭矩额定(模块 ≤3.5 N·m 量级)再谈导热系数;硅脂防 pump-out 用点胶工艺固定。
- 宽禁带器件(SiC/GaN)热设计默认“小面积高密度”:留足瞬态热容、Tj 按封装额定而非材料极限、模块 NTC 必须标定映射。
5. 热测试与验证:热电偶、热像仪、环温试验
5.1 先给结论
热测试回答三个问题:器件到底多热(结温)→ 板上哪最热(热像)→ 最坏环境能否耐受(环温)。三样工具对应三问:热电偶测壳温/点温、结温用 Tc 反推;热像仪看全场找热点;温箱/老化做环温与寿命验证。测试口径不写清楚的热数据没有价值——环境温度、气流、负载、输入电压、预热时间五要素缺一不可。
5.2 热电偶测温点选择
- 壳温 Tc:测封装散热面/露铜焊盘——这是“结温反推”的基准点(§5.3),必须贴在热流必经的散热路径上而不是塑料壳体表面(塑料侧温度低于结的真实散热通道,业界经验)。
- 电解电容:测壳体表面中上部(远离焊脚的位置,靠近内部热点);Nichicon 原文明确“建议用热电偶实测温升”而非只按公式算(出处:Nichicon 篇 §2-9-5-5)。纹波发热的“元件中心温升”要用表面温升换算(表 2-4 的 α 系数,出处:Nichicon 篇 §2-9-5-1)。
- 变压器:最热点在绕组内部,不拆开就测不到——工程口径用线包表面 + 估算值,或用开气隙样品埋偶线(业界经验);绕组温升直接决定绝缘寿命(105 ℃ 档 B 级绝缘的 10 ℃ 规则同理)。
- 固定方式(业界经验):小点快干胶/高温胶带固定偶头,保证与测点良好接触;偶线沿等温线走一段再引出(避免导线导热拉低读数)。
5.3 结温怎么测:Tc 反推 Tj(厂商 Tc 实测方法)
结温不可直接测,标准做法(教科书/标准通识 + 库内平面04 篇 §12):测壳温,用 datasheet 热阻反推:
$$T_j = T_c + P_{diss}\times\theta_{JC}$$
代入数值(本篇复算):器件 P=10 W、θJC=1 ℃/W,热电偶测 Tc=85 ℃ → $T_j = 85 + 10\times1 = 95\ \mathrm{\,^{\circ}\mathrm{C}}$。注意两点:P 必须用该测试工况的实际损耗(不是额定值);θJC 用 max 值取保守(业界经验:datasheet 给 typ 与 max 两档时,预算用 max、评估用 typ)。
控制器 IC 的同类核算(驱动损耗计入封装热):驱动 IC 的发热常被低估——栅驱动损耗 $P_{gate} = Q_g\cdot V_{DD}\cdot f_{sw}$ 全耗在驱动器封装里。库内 MP6951 例:1 MHz × Qg 70 nC → 栅损 ≈0.46 W → 温升约 101 ℃ → TJ≈126 ℃,“封装先于硅片过热”(出处:待核实总表 MP6951 行)——这就是“高频控制器必须做驱动损耗热核算”的实证。同思路:NCP1399 SOIC-16 自耗 0.35 W(IC 静态 81 mW + 双路栅驱动约 0.27 W)→ 温升约 45 ℃,所以“芯片别贴着变压器放”(出处:NCP1399/04 §3.6)。
厂商的“结校准”方法(出处:平面04 篇 §12 全译):测热阻前先做校准曲线——把器件当二极管,强制 10 mA 感测电流 IS、测正向压降 VFSD,VFSD 随结温单调变化,标定成“VFSD ↔ Tj”曲线;此后热测试同样强制 10 mA,由 VFSD 反推结温。这是电学法测结温(JEDEC 标准方法)的原理,比热电偶更准——热电偶只能测壳/环境,电学法直接读结。库内实例:SiC 栅驱动篇对栅驱动器 IC 用 $P_d = (T_{j,max}-T_a)/R_{th}$ 反推允许功耗(180 ℃/W → 694 mW @150 ℃/25 ℃),就是同一逻辑(出处:SiC 栅驱动篇 §4.6/§5)。
5.4 热像仪使用:发射率校正
热像仪测的是表面红外辐射,不是温度本身——读数依赖目标表面发射率 ε(教科书/标准通识 + 业界经验):
- ε 校正纪律:抛光的铜、铝、不锈钢 ε 极低(0.04~0.1),直接拍会严重低估温度(反射环境辐射);黑漆/阳极氧化表面 ε≈0.9,读数可信。
- 实测手法(业界经验):对比测点贴**黑色胶带/黑漆(ε≈0.95)**作为参考点,或对同一点“热电偶读数 × 热像仪读数”反标定 ε;金属表面优先用热电偶或喷黑再拍。
- 角度与距离:垂直拍摄、避免反射源(人、灯、手)出现在视场;热像仪标称精度(通常 ±2 ℃ 或读数的 2%)是理想条件,实操按 ±5 ℃ 留裕量(业界经验)。
5.5 环温试验:温箱与老化
- 温箱试验:把整机放进温箱,在标称最高环境温度(如 40/50/60/70 ℃ 档)满载运行至热平衡(预热时间要足够,热平衡至少 1~2 h,业界经验),测各关键点温度——这是“最坏环境下的结温”的唯一合法来源。
- 老化(burn-in):筛选早期失效(浴盆曲线第一段,出处:可靠性篇 §1.2),同时是热设计余量的工程验证——老化工位环境往往比温箱更真实(自然对流、多台互相加热)。
- 降额验证:低输入高线/低线两种满载都要跑——热最差工况常在最低输入电压满载(电流最大、损耗最大,NCP1680 EVB 的 90 Vac 热像就是典型,出处:EVBUM2822),不是标称输入。
5.6 可照做(热测试 checklist 见 §7.4)
- 热像仪先贴黑参考点校 ε,再全场扫一遍找热点;热点的精确认证交给热电偶。
- 结温一律 Tc 反推(Tj = Tc + P·θJC),P 用实测工况损耗;要更高精度用 VFSD 电学法。
- 环温试验按“标称最高环境 + 最低输入 + 满载 + 热平衡”四条件打组合拳。
6. 热与寿命/可靠性联动:10 ℃ 减半法则与设计目标
6.1 先给结论
热设计的最终裁判不是“结温没超规格”,而是**“这台电源在目标寿命内不坏”**。而温度与寿命之间有一条粗暴但有效的指数法则:温度每降 10 ℃,失效率/寿命大致向好的方向翻倍——电解电容是精确公式(式 2-19),半导体失效率是近似经验。热预算定多少,等于在定寿命预算。
6.2 电解电容:10 ℃ 减半的精确公式
铝电解寿命公式(出处:Nichicon 篇 §2-9-6,式 2-19):
$$L_n = L_o \times 2^{\frac{T_o - T_n}{10}} \times 2^{\,1-\frac{\Delta t_n}{K}}\,,\qquad \Delta t_n = t_0 \times \left(\frac{I_n}{I_m}\right)^2$$
三个记忆锚点(出处:Nichicon 篇):环境温度每降 10 ℃ 寿命翻倍(公共指数 2^((To−Tn)/10));纹波电流按平方进入温升(Δtn∝In²,纹波降一半温升降 3/4);推算寿命 15 年封顶。代入库内例:105 ℃/2000 h 卡扣电容、60 ℃ 环境、纹波恰为额定 → 约 61 500 h ≈ 7 年(出处:Nichicon 篇 §2-9-6 译者代入例)。热设计推论(布局篇 §8.3):把电容环境温度降 10 ℃ 就是寿命翻倍——电解电容远离变压器/MOSFET、不摆发热元件背面,是“免费”的寿命设计。纹波温升上限直接查表 2-6:315 V 以上卡扣型,环境 40/55/65/85/105 ℃ 对应中心温升限 Δtc = 30/30/25/15/5 ℃(出处:Nichicon 篇 §2-9-5-3)。
6.3 MOSFET:失效率与结温
- 失效率-结温:半导体失效以热激活过程为主,近似符合阿伦尼乌斯加速;工程口径常用“结温每降 10~20 ℃ 失效率约减半”的指数近似(教科书/标准通识 + 「业界经验」,系数因工艺而异)——与电解的 10 ℃ 规则同源(同为 2^((T1−T2)/10) 型指数),但量级更粗糙,只能当趋势用。
- 降额红线:工作结温 ≤ 0.8×Tj,max(通识降额,出处:可靠性篇 §2.3);库内器件验收线实例:NCP4307 结温 ≤105~110 ℃、TEA1995T Tj<125 ℃ 验收线、MP6908 PD 预算 0.45 W @TA=50 ℃(P=(150−50)/220)(出处:待核实总表)。
- RDS(on) 正反馈:结温升 → RDS(on) 升 → 损耗升 → 结温再升(正温度系数)。SiC 栅驱动篇警示过大的栅电阻导致“损耗→发热→电阻再增大”的循环、可能损坏器件(出处:SiC 栅驱动篇 §4.7)——热设计把 Tj 压住,同时也是把损耗压住。
6.4 热循环:焊点疲劳与功率循环
- 焊点热循环疲劳:焊点随温度循环(ΔT)周期性膨胀收缩,累积应变损伤。寿命与温变幅度的关系用 Coffin-Manson 幂律近似:$N_f = C\cdot(\Delta T)^{-m}$,焊点典型 m≈2(教科书/标准通识,IPC 相关方法)——ΔT 减半,寿命约×4。工程含义:温升越低不仅是“平均寿命长”,“温度波动小”同样关键;频繁开关机、负载突变的电源,焊点/端子疲劳是真实失效模式。
- 功率循环:结温摆幅 ΔTj 使键合线热疲劳,寿命随 ΔTj 指数缩短(出处:SiC 深潜 §6.3/§8.2.9,可靠性篇 §3.3 引用)——MOSFET 的“寿命”用“工作结温低 + 结温摆幅小”来管,功率循环应力大的场景(频繁开关机)降 ΔTj 比降平均结温更有效。
6.5 设计目标怎么定:电解 85 ℃、MOSFET 125 ℃ 的由来
- 电解电容 Tc ≤85 ℃:这是“105 ℃/2000 h 档电容”的量产常用目标(「业界经验」)。验算(本篇复算):环境+自热后壳温 85 ℃,寿命 = 2000×2^((105−85)/10)×纹波项≈8000 h≈1 年连续运行——所以 85 ℃ 是“能活、但不长久”的档位;要 5~10 年寿命,按可靠性篇 §3.4 反推电容环境温度需 ≤50~60 ℃(105 ℃/2000 h 档连续 10 年 → Tn≤约 50 ℃,出处:可靠性篇 §3.4 复算)。结论:85 ℃ 是保护下限,50~60 ℃ 才是寿命目标。
- MOSFET Tj <125 ℃:125 ≈ 0.8×150(150 ℃ 档管子的通识降额);175 ℃ 档 SiC 可放高到 140 ℃,但散热设计仍建议按 125 ℃ 做余量(业界经验)。NCP4307/TEA1995T 的 105~125 ℃ 验收线与之一致(出处:待核实总表)。
- 变压器绕组 ≤100 ℃:磁材磁损在 80~100 ℃ 有谷点(待核实总表磁件行),但绝缘寿命随温度加速——E 级/B 级绝缘按 105/120 ℃ 极限留裕量,量产设计绕组稳态 ≤100 ℃(「业界经验」),UCC28781 EVM 绕组 104 ℃ 属“能跑但接近极限”(出处:UCC28781 EVM 精译 §8.6,见 §3.5)。
6.6 可照做
- 热设计目标写进规格书:电解 Tc、MOSFET Tj、绕组温度三行,各自带环境温度与寿命假设。
- 电解电容周围 10 ℃ 法则落地:发热器件远离、纹波按平方核算、表 2-6 温升限逐档核对(出处:Nichicon 篇)。
- 热循环敏感场合(频繁启停/负载冲击)多关注 ΔT 而非平均温度:降负载阶跃、软启动、限制频繁开关机。
- 结温摆幅和平均结温都要记——功率循环应力大时先压 ΔTj。
7. 精炼速查
7.1 热阻链一页纸
P_diss (W) ──► 结(junction) ──θJC──► 壳(case) ──θCS──► 散热器/铜箔 ──θSA──► 环境
Tj Tc Ts Ta
Tj = Ta + P×(θJC + θCS + θSA) θJA = θJC + θCS + θSA
结温不可直测:Tj = Tc + P×θJC(测 Tc,用 datasheet θJC 反推)
| 符号 | 含义 | 量级(标准通识/库内) |
|---|---|---|
| θJC | 结-壳(封装内) | 0.5~3 ℃/W |
| θCS | 壳-散热器(TIM+接触) | 0.1~1 ℃/W |
| θSA | 散热器-环境 | 自然 5~20、风冷 1~5 ℃/W |
| θJA | 结-环境(板上) | SOT-23 ~200、SO-8 无焊盘 ~100、DPAK+1 in² 铜 40~80、多层铜平面 20~40 ℃/W |
7.2 温升速算表
| 条件 | 每 W 温升(℃/W) | 出处 |
|---|---|---|
| 1 cm² 1 oz 铜箔横向传导 | ≈74 | 本篇推算(§2.2) |
| 1 cm² 2 oz 铜箔横向传导 | ≈37 | 本篇推算(§2.2) |
| 0.3 mm 镀通孔过孔(每只) | 100~200(填锡更低) | 布局篇 §8.2 |
| 9~16 只过孔阵列 → 内层平面 | 个位数 ℃/W | 布局篇 §8.2 |
| 100 cm² 表面自然对流 | ≈10 | 教科书/标准通识 |
| 100 cm² 表面强制风冷 | ≈1 | 教科书/标准通识 |
| 100 cm² 黑化表面辐射(90 ℃) | ≈13.5 | 本篇推算(§2.4) |
| 1 in² 2 oz 板上功率管 θJA | ≈62.5 → 散 2 W 顶天 | 平面04 篇补例 4 |
| 多层内层铜平面(300 W PFC 实证) | ≈20 | EVBUM2822 交叉验证(§3.5) |
7.3 散热手段清单
- 免费级:功率焊盘铺铜(2 oz 起)+ 过孔阵列(0.3 mm,9~16 只,填锡更佳)+ 多层内层铜平面;开关节点散热用热过孔导内层、不摊大铜(EMI 优先,布局篇 §8.4)。
- 板级:铝基板/IMS(绝缘层热导率 1~3 W/m·K 是瓶颈);注意安规隔离要求。
- 器件级:铝挤散热器(θSA 反推:θSA ≤ (Tj,max−Ta)/P − θJC − θCS,自然对流按 h≈10 折算面积);TIM 选型查扭矩额定、防硅脂 pump-out(SiC 应用笔记 §6.4)。
- 系统级:风扇+风道(h 升到 50~250,θSA 压 2~4 倍);风道“上进下出、发热件上游、电容避开出风口”;风扇按磨损失效件做温控调速与失效降额。
- 宽禁带器件:小芯片高密度 → 留瞬态热容、Tj 按封装额定(150~175 ℃)、模块 NTC 标定映射、低损耗本身是散热(SiC 应用笔记 §3.12/§6.3/§6.10)。
7.4 热测试 checklist
- [ ] 测试口径五要素记录:环境温度、气流(有/无风)、负载、输入电压、热平衡时间(≥1 h)
- [ ] 热像仪:贴 ε≈0.95 黑参考点校正后再拍;金属抛光面不直接采信
- [ ] 热点全扫一遍后,对每个热点用热电偶复核精确认证
- [ ] 结温 = Tc + P×θJC,P 用该工况实测/核算损耗;更高精度用 VFSD 电学法(10 mA 感测,平面04 §12)
- [ ] 覆盖最差工况:最低输入电压满载(电流最大)≥ 标称输入满载
- [ ] 电解电容壳温 vs 表 2-6 中心温升限;MOSFET Tj vs 125 ℃ 降额线;变压器绕组 ≤100 ℃(量产档)
- [ ] 温箱环温试验在标称最高环境温度跑热平衡;老化(burn-in)顺带验证热设计余量
- [ ] 数据与 §3.5 库内 EVM 口径对齐(条件可比较再谈数值)
存疑与待核实(本篇引用中带「待核实」/假设口径汇总)
| 项 | 出处 | 现状 |
|---|---|---|
| 65 W QR 主开关 RDS(on) 0.30 Ω@25 ℃、关断损耗 0.5~1 W | 本篇 §1.4 假设 | 650 V 超结档典型量级,选型后以实际管子 DS 复核 |
| NCP1680 每只桥臂管满载损耗 1.5~2 W | 本篇 §3.5 交叉验证假设 | 用于反推 θJA(eff)≈20 ℃/W,非原文数据 |
| 散热器体积经验(50~100 cm³/3~5 ℃/W、风扇压 2~4 倍) | 本篇 §3.4 | 业界经验量级,随翅片设计与气流大幅变化 |
| 半导体失效率“结温每降 10~20 ℃ 减半” | 本篇 §6.3 | 阿伦尼乌斯近似口径,系数因工艺而异,标「业界经验」 |
| 0.3 mm 过孔 176 ℃/W | 本篇 §4.2 独立推算 | 与布局篇 100~200 ℃/W 量级互相印证,镀铜厚度为典型假设 |
| NCP1680 EVBUM2822 快/慢桥臂开关管 <60 ℃(+35 ℃) | EVBUM2822 精译 | 原文明确(热成像位图,图 16),无其他点温度读数 |
| UCC28781 EVM 绕组 104 ℃ 等 | UCC28781 EVM 精译 §8.6 | 原文文字层读数照录;环境温度按规格表 25 ℃ 口径 |
| Nichicon K 系数(50 ℃≈10→105 ℃≈5) | Nichicon 篇 §2-9-6 | 图解读数,待核实 |
| 电解 85 ℃/1 年、10 年→Tn≤50 ℃ | 本篇 §6.5 / 可靠性篇 §3.4 | 式 2-19 教学复算,换档位/纹波即变 |
本篇所有热阻/散热系数为教科书/标准通识量级,正式设计以所选器件 datasheet 热阻(含测试铜箔条件)与现行标准(JEDEC/安规)为准;散热器与 EVM 交叉验证为教学推算口径,实板须按 §5 实测闭环。