开关电源知识库

20_基本元器件/03_功率器件/GaN — 增强型 p-GaN GIT:高密度快桥臂的主力功率管

类别定位:增强型(E-mode)p-GaN 栅注入晶体管(GIT, Gate Injection Transistor)是 600 V 档 GaN HEMT 的常关型主流形态之一:欧姆 p-GaN 栅 + 栅源等效二极管(VF 3~4 V)钳位、阈值 Vth≈1.2 V、Qrr≈0、Coss 小且陡、dV/dt 能力 100 V/ns 级——高密度适配器/快充的快桥臂、图腾柱 PFC、ACF 主功率级的主力器件。库内两条 IC 线都为它留好了位置:UCC28781 的 SET 脚一键 Si/GaN 双参数档(PWML 钳位 ≈13 V 可直驱 GaN GIT、GaN 档 tCSF 保护收紧到 1 µs)、NCP1568 面向“超结 Si 或 GaN”的 ACF 变频 ZVS 算法(S02/G03/G04 三个时序变体按 Si/GaN 分档)。

E-mode vs D-mode 简述甄别:本文档体系是 E-mode GIT——栅极加压 + **持续灌持流(ISS 几 mA)**即导通,栅驱动端口像“压在 VF 上的二极管”,可直接配标准驱动器 + RC 接口。D-mode(常开型)GaN HEMT 本体不能直接用:业界主流做法是与低压 Si MOSFET 串成 cascode(共源共栅)——借 Si 管的常关性实现关断、GaN 管承受压,驱动端口等效为 Si MOSFET 栅(宽窗 ±20 V 档),代价是引入 Si 管的 Qrr 与共源回路电感。(此段为业界口径综述;cascode 路线的具体厂商与器件本库暂无原文文献支撑,「待核实」,不硬写。)

通识 vs 原厂逐句的分工:GaN 的材料物理、CMTI、自举、布局通识在 GaN 与隔离驱动基础教程(教程,讲“为什么”);本类三篇是原厂文献的逐句全译:00/01 两篇(英飞凌)讲“这颗管子怎么驱动才对”——GIT 持流驱动正是教程 §2.1“GIT 10 V 档另论”一句的原厂展开;02 篇(EPC)讲“死区这几十纳秒怎么计费”——教程 §3.2 死区账的原厂定量版。

本类三篇导航

文件 原文 篇幅 讲什么、什么时候读
00_CoolGaN栅驱动设计指南全译.md Infineon AN184200《Gate-drive design guide for Infineon high-voltage CoolGaN™ Transistors》,V1.0(2026-08-31),17 页 全译 ~250 行 GIT vs SGT 的驱动分水岭:压驱 vs 持流驱(图 1~4)、RC 接口设计公式(式 1~6 全录 + 代入数字)、栅下拉 RGS 50~100 kΩ、分步设计流程九步、两个完整设计实例(20 A 全桥 LLC→RSS≈367 Ω/CC≈3.42 nF;4.5 A 反激→RSS=4.25 kΩ/CC≈0.47 nF)。选型/算 CC·RSS 时读
01_600V驱动速查全译.md Infineon AN_2107_PL52_2108_141427《Quick-reference guide to driving CoolGaN™ GIT HEMTs 600 V (RC interface)》,Dr. Bainan Sun,V1.1(2021-12-02),12 页 全译 ~230 行 逐件调参速查:Rss/Rtr/CC 各自调什么(式 1~3)、表 1 按档位选 Rss(55 mΩ→470 Ω…500 mΩ→4 kΩ)、表 2 硬开关按摆率选 Rtr(~105→60 V/ns 配 5.6→47 Ω)、表 3 电机驱动降速配方(~5/10 V/ns)、-VN 取值(硬开关 4~5 V/软开关 ≤2 V)。动手调板子时查
02_EPC死区优化白皮书精译.md EPC WP012《Dead-Time Optimization for Maximum Efficiency》,J. Strydom & D. Reusch,©2020,6 页 全译 ~150 行 死区损耗定量核算(eGaN 第三象限):“体二极管”压降比 Si 高 1.5→近 2 V(图 1)、有效死区定义、表 1 四条死区损耗公式全录、60 V/12 V 算例最优死区(5~20 vs 9~36 ns;3~6 vs 7~13 ns;单一死区 20±7 vs 44±16 ns)、外接肖特基三条件与 50~70% 降损、1 MHz/12 V→1.2 V 实测。整定死区、给 GaN 方案留死区预算时读

读法建议:00 篇讲“为什么必须持流、怎么从 datasheet 曲线算出 ISS”(设计方法),01 篇讲“查表即用、怎么按场景微调”(工程速查);两篇公式互通(ISS=(VDD−VF)/Rss 同式两写法),先 00 后 01,调板时只翻 01。02 篇独立成篇(EPC eGaN 体系、压驱),定死区预算、评审 GaN 方案损耗核算时读。

关键数字速查(三篇原文照录)

数字 含义 出处
VF 3~4 V / Vth ≈1.2 V GIT 栅二极管钳位正向压降 / 阈值(负偏设计的根源) 01 篇 §1
Iss 几 mA / Ion、Ioff 至 1 A 导通持流 / 开关瞬态峰值栅电流——两种电流、两条通路 01 篇 §1
ISS=(VDD−VF)/Rss 持流欧姆定律(00 篇式 3 = 01 篇式 1,VDD=8 V 基准) 两篇 §3
470 Ω↔4 kΩ 表 1:55 mΩ→500 mΩ 档的参考 Rss(Iss 10~12 mA→~1 mA) 01 篇表 1
k=2~4 / CC≥k·Qg/(VDD−VF) 电荷泵耦合电容设计(双极性供电 k=1 并减小 CC 防负压过大) 00 篇式 1~2
36 A @ 26 mA、Tj=125 ℃ IGT65R055D2 的 ID,pulse 额定对应持流(9.7 A @ 7.1 mA 为 IGD70R200D2S) 00 篇 §3.1/3.2
k=36/68≈0.529 ID,pulse/ID,peak 比值估算法(13 mA→理想 34 A→×0.8 离散=27.2 A≥25 A) 00 篇式 4
20% / 10~20% / 50% 源侧 RDS(on) 占比 / IG 裕量档 / “工作电流>50% ID,pulse 即大功率”判据 00 篇 §3.1
50~100 kΩ(对比 Si 10 kΩ) 栅下拉 RGS 取值(GaN 泄漏低可用高阻) 00 篇 §3
20~50 Ω @140 mΩ、8 V 硬开关典型 Rtr(软开关 Rtr 不关键) 01 篇 §3.1
-3 V→-4~-5 V 表 2:CC 3.3→4.7 nF 把负偏从 -3 V 拉深(140 mΩ 档同法) 01 篇表 2
VN 4~5 V / ≤-2 V 硬开关负偏建议 / 软开关负偏上限(第三象限损耗折中) 01 篇 §3.1/3.2.1
~5 V/ns 与 ~10 V/ns 电机驱动两条降速配方(Cgd_ext 5~9 pF+Rdamp 50 Ω+Cgs_ext 100 pF / 仅 Cgs_ext 2 nF) 01 篇表 3
1.5 V @ 25 ℃→近 2 V @ 125 ℃ eGaN“体二极管”反向导通压降比同档 Si MOSFET 高出的值(QRR≈0 的另一面) 02 篇图 1
E_dt=I_L·V_F·Δt 等四式 每死区间隔能量损耗公式(开通/QRR/E_OSS/二极管导通,半桥图腾柱+降压开通口径) 02 篇表 1
36% / 45% / 2.5× 60 V 档硬换流+QRR 损耗比 / 12 V 档损耗比 / 体二极管导通损耗斜率比(eGaN/Si) 02 篇图 4/5
5~20 ns vs 9~36 ns;20±7 vs 44±16 ns 60 V 档最优死区(4→20 A 动态/单一死区实用值),eGaN vs Si——eGaN 死区数值与公差都要减半 02 篇图 4
3~6 ns vs 7~13 ns(<6 ns 宽) 12 V 档最优死区与恒定死区窗口——精度难产生,需动态死区/更紧公差 02 篇图 5
~40% 导通损耗、~4× 死区窗口 12 V 档 eGaN 外接 3 A 肖特基的收益(<0.2 μJ 口径窗口,≈2× 于无集成肖特基的 Si) 02 篇图 7
1%/10 ns vs 1%/20 ns;50%/70% 1 MHz、12 V→1.2 V buck 实测:eGaN 每 10 ns 合计死区掉 1% 效率(Si 为 20 ns);外接 1 A 肖特基降损 50~70% 02 篇图 8

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